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　　俞宗强举例介绍，在电子束缺陷检测设备（EBI）方面，其新一代产品SEpA-i635在核心电子光学系统上采用超大电流预充电（微安级）和大电流成像（百纳安级）技术，束流实现量级跃升，能够敏锐捕捉先进存储晶圆复杂结构中的电性缺陷；通过高速DPU系统和AI赋能的YieldBook良率数据管理系统，在图像数据处理与缺陷识别上的全方位升级等，检测速度相较于前代产品提升3倍以上，极大提高了缺陷检测的效率与精度，实现更好的投入产出比。